尽管2019年intel已经量产了10nm工艺，但是因为多年延期，导致10nm工艺进度没跟上，目前还处于产能爬坡阶段，以致于intel的处理器出现供应短缺的问题。为了彻底解决这些问题，intel还在努力推进7nm工艺，最快2021年量产。
7nm是intel下一代工艺的重要节点，而且是高性能工艺，其地位堪比现在的14nm工艺，而且它还是intel首次使用euv光刻的制程工艺，意义重大。
根据intel之前公布的信息，其7nm euv工艺相比10nm工艺晶体管密度翻倍，每瓦性能提升20%，设计复杂度降低了4倍。
7nm工艺的首款产品就是xe架构的gpu加速芯片，主要应用于数据中心ai及高性能计算，最快2021年量产，也就是2年后7nm euv就能担大梁了。
目前intel正在加速7nm euv工艺的步伐，今年8月份就订购用于7nm euv工艺节点的材料和设备，比预期速度更快。
编辑：齐少恒
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